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ASML成功交付首台光刻机，来看quan球EUV极紫外光刻机技术新进展
发布时间： 2022/12/15 14:05:59 | 195 次阅读
近日，荷兰阿斯麦（ASML）公司在美国芯片禁令后向上海鼎泰匠芯科技有限公司成功交付首台ASML光刻机，但是这台光刻机的制程属于DUV深紫外光，并不是zui先进的EUV极紫外光设备，这一举动引发了广泛热议。
对于光刻机而言，zuihe心的技术就是光源，光刻机按光源技术进步次序可分为紫外光（UV）、深紫外光（DUV）、极紫外光（EUV）三大类。
当前quan球能够制造EUV光刻机的企业只有荷兰ASML一家企业，日本的佳能、尼康和中国上海微电子仅能制造DUV光刻机。荷兰ASML公司的EUV光刻机采用的是美国研发提供的13.5nm极紫外光源为工作波长的投影光刻技术，中国DUV光刻机使用的是波长193nm深紫外光源技术。
图源：荷兰ASMLguan网
极紫外光刻技术研发突破的关键点主要是光源、掩模技术、光刻胶，那么当前quan球的极紫外光刻技术研发进展如何？
从quan球来看，美国和日本都在极紫外光刻方面已进行了深入的研究。小编通过查询智慧芽研发情报库，quan球共有1337条zhuan利数据（已去重同时在多个国家/地区申请的zhuan利），其中quan球“极紫外光刻”zhuan利技术拥有者主要有：
台湾积体电路制造股份有限公司
卡尔蔡司SMT有限责任公司
旭硝子株式会社
ASML荷兰有限公司
英特尔公司等
这5家公司在极紫外光刻技术方面都有什么研发进展呢？小编在研发情报库中查询了他们在半导体领域zui新申请的zhuan利数据，简单的分享了前5件zhuan利信息：
??01：半导体制造设备及制造半导体装置之方法
来源：智慧芽Eureka研发情报库
??02：用于极紫外光刻的反射掩模坯、用于极紫外光刻的反射掩模及其制造方法
来源：智慧芽Eureka研发情报库
??03：euvl用玻璃基板、euvl用掩模板
来源：智慧芽Eureka研发情报库
??04：光罩的制作方法
来源：智慧芽Eureka研发情报库
??05：EUV光刻用反射掩模板、EUV光刻用掩模板及其制造方法
来源：智慧芽Eureka研发情报库
根据智慧芽研发情报库显示，当前我国关于“极紫外光刻”技术拥有者主要有：
中国科学院微电子研究所
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
哈尔滨工业大学
中国科学院上海光学精密机械研究所
北京理工大学等
其中，上述5家企业在半导体领域zui新申请的极紫外光刻技术的相关zhuan利前5件分别有：
??01：基于空间像主成分分析的极紫外光刻投影物镜波像差检测方法
来源：智慧芽Eureka研发情报库
??02：变倍率极紫外光刻投影曝光光学系统
来源：智慧芽Eureka研发情报库
??03：极紫外光刻投影曝光光学系统
来源：智慧芽Eureka研发情报库
??04：极紫外光刻掩模衍射谱的快速仿真方法
来源：智慧芽Eureka研发情报库
??05：一种用于极紫外光刻光源中喷嘴的清洗装置与方法
来源：智慧芽Eureka研发情报库
极紫外光源被行业赋予拯救摩尔定律的使命，我国对极紫外光刻技术的探索从未停止。
小编今天仅展示了quan球极紫外光刻技术的zui新申请zhuan利数据信息，还有极紫外光刻相关技术譬如光刻胶相关研发，等待你来一探究竟！
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关于智慧芽
智慧芽是一家科技创新信息服务商，致力于为quan球创新企业和创新生态人群提供服务，提供创新数据以洞察信息，提供创新工具促进敏捷协作，以开放合作构建创新生态，实现“连接创新，突破边界”的使命和价值。
以机器学习、计算机视觉、自然语言处理（NLP）等人工智能技术和大数据加工厂2.0的卓越能力为基础，智慧芽构建起丰富的产品和解决方案矩阵——面向知识产权人群提供包括zhuan利数据库、知识产权管理系统在内的知识产权信息服务，面向研发人群提供研发情报库和竞争情报库，面向生物医药行业提供新药情报库、生物序列数据库、化学结构数据库等，面向金融机构提供企业科创力评估、产业技术链、zhuan利价值评估等。此外，智慧芽还打造了智慧芽学社、咨询、创新研究中心等，为广泛的科技创新人群提供无限价值。
截至目前，智慧芽已经服务quan球50多个国家超12000家客户，涵盖了高校和科研院所、生物医药、新材料、新能源、智能制造、通信电子、新能源汽车、半导体等50多个高科技行业。国内客户包括清华大学、北京大学、中科院、中国石化、海尔、美的、小米、宁德时代、小鹏汽车、大疆、药明康德、商汤科技、华大等；国际客户包括麻省理工学院、牛津大学、陶氏化学、戴森、Spotify等。